【專利法】對(duì)于科研成果,企業(yè)應(yīng)根據(jù)不同情況,選擇專利保護(hù)或商業(yè)秘密保護(hù),那么,專利保護(hù)的缺陷表現(xiàn)在哪幾個(gè)方面呢?接下來(lái)就帶您一起了解相關(guān)知識(shí)。
專利保護(hù)的缺陷表現(xiàn)
1、專利保護(hù)有期限性,發(fā)明創(chuàng)造包括三類,即發(fā)明、實(shí)用新型和外觀設(shè)計(jì)。其中發(fā)明專利權(quán)的保護(hù)期限為20年,實(shí)用新型專利權(quán)和外觀設(shè)計(jì)專利權(quán)的期限為10年。
這表明,一旦發(fā)明創(chuàng)造獲得專利權(quán)后,最多只能獲得20年的法律保護(hù)。超過(guò)這一期限,企業(yè)的發(fā)明和技術(shù)創(chuàng)新將被置于公眾領(lǐng)域,無(wú)償貢獻(xiàn)給社會(huì),任何企業(yè)均可免費(fèi)使用該發(fā)明或技術(shù)創(chuàng)新。
2、專利保護(hù)破壞秘密性。因?yàn)樯暾?qǐng)專利必須將企業(yè)的發(fā)明創(chuàng)造公之于眾,使該技術(shù)成為公知技術(shù),這樣,任何人都可以輕易獲得專利技術(shù),因此,專利技術(shù)的公開(kāi)化,無(wú)疑給不法企業(yè)侵犯專利權(quán)提供了現(xiàn)實(shí)條件。
3、專利保護(hù)會(huì)使得企業(yè)失去競(jìng)爭(zhēng)力。科研成果被授予專利后,其他企業(yè)可以在已獲得專利的技術(shù)基礎(chǔ)之上,再發(fā)展成新的發(fā)明創(chuàng)造,獲得新的專利。盡管企業(yè)的專利仍然受到法律保護(hù),但是同更新的技術(shù)相比已經(jīng)處于劣勢(shì),企業(yè)將失去競(jìng)爭(zhēng)力。
4、專利保護(hù)有代價(jià)。申請(qǐng)專利需要支付一定的費(fèi)用,而獲得專利后也要繳納年費(fèi)。
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